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        新闻资讯

        2020-03-02

        盐城维旺微纳光学导光板项目启动仪式圆满举行

        2020年3月2日,早春二月,大地复苏。盐城维旺微纳光学导光板项目启动仪式于大丰经济开发区光电科技产业园隆重举行。大丰区政府相关领导及维旺科技管理层领导相聚在美丽富饶、人文荟萃的大丰共同为项目启幕。

        2020-03-01

        仿鲨鱼皮纹理贴片,将助力公共场所抑菌和个人防护

        鲨纹科技(Sharklet technology)技术,为一种仿生物理抑菌防污技术,可通过表面纹理结构来抑制细菌污染,灵感来自于鲨鱼。鲨鱼一生与水相伴却不易受微生物侵扰,其表皮的肤齿结构功不可没。在材料表面处理得到这种模仿鲨鱼皮的纹理结构,可起到抑菌作用。

        2020-02-09

        众志成城战疫情 苏大维格在行动

        苏大维格集团发挥自身的产品优势,第一时间向苏州园区慈善总会、苏州园区志愿者协会以及南通、盐城、泗阳等地的红十字会等相关机构捐赠了10万件由子公司常州华日升生产的反光衣物资,加上早前在常州捐赠的10.02万件反光背心,累计数量达20.02万件。这些反光背心主要用于提升和保障防疫一线人员在夜间执法的交通安全。

        2020-02-09

        疫情来袭,让我们“见屏如见面”!

        疫情突如其来,为了减少面对面交流、降低疾病传染的可能性,春节后的企业复工、学校复课都在延后,城市之间的流动也被按下了暂停键,并且返程的人员也不能立即到岗,需要在家自行隔离一段时间。各地学校纷纷“??尾煌QА?、企业也采取“居家办公”的模式。这对于移动办公平台来说,既是难得的机遇,更是一场考验。

         

        背光模组超薄导光板(膜)

        热压印工艺将精密模具上微结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学网点结构有效地将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。通过微结构优化中大尺寸导光板(膜),光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均匀。

         

        大尺寸透明导电膜(模组)

        “基于柔性纳米压印技术”的新型透明导电膜制造技术,采用micro-metal-mesh(M3)制程工艺,颠覆了精密电路需要蚀刻的传统工艺,通过纳米压印和增材制造(选择性生长),获得大幅面高性能透明导电膜和自支撑透明导电材料

         

        创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

        苏州苏大维格科技集团股份有限公司

         

        总部

        苏州市新昌路68号,苏州工业园区(独墅湖大道南侧,与金堰路交叉口)
        电话:+86-512-6286 8882
        传真:+86-512-6260 0602
        邮箱:info@www.cfyvc.com

        最新公告

        2019-04-08

        苏大维格喜获2018年度江苏省科学技术奖一等奖

        苏州苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“公司”)于近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术奖一等奖。

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        2019-01-09

        项目介绍:面向微纳3D形貌的紫外光刻直写技术与设备

        超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件上的微透镜有数千万个以上;一件口径10mm以上的超透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以上的数据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量级增大;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效率。如何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并行处理、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬底伴随着不平整度远大于光刻系统的焦深,因此,必须解决衬底不平整性对微结构分辨率和保真度的影响,解决与成像焦深的矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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        2019-01-09

        项目介绍:光场调控的纳米光刻设备NanoCrystal200

        研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

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        2019-01-09

        项目介绍:微纳3D打印/光刻技术与设备

        在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,未有效解决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,分辨率可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打?。⊿LA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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